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::: 可授權專利

高電磁穿透複材結構HIGH ELECTROMAGNETIC TRANSMISSION COMPOSITE STRUCTURE

創作型式：
專利證號：
I365811
發明人：
李乘清 LEE, CHENG CHING TW;林俊雄 LIN, JIUNN SHYONG TW;陳信宏 CHEN, SHIN HON TW;金一凡 KING, YIE FAN TW;林大春 LIN, DAR CHUEN TW
國別：
中華民國
獲證日期：
20120611
專利摘要：
本發明揭露一種高電磁穿透複材結構，用以降低電磁波之穿透損失。高電磁穿透複材結構包含第一複合式結構層、第二複合式結構層以及緩衝層。第一複合式結構層具有第一厚度以及第一介電常數。第二複合式結構層具有第二厚度以及第二介電常數。緩衝層設置於第一複合式結構層與第二複合式結構層之間，並具有第三厚度以及第三介電常數。其中電磁波之穿透損失可藉由調整第一厚度、第一介電常數、第二厚度、第二介電常數、第三厚度以及第三介電常數而改變。
IPC國際分類號：
B32B-033/00(2006.01);B32B-017/10(2006.01);B32B-005/24(2006.01)