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::: 可授權專利

電磁波反射裝置ELECTROMAGNETIC WAVE REFLECTING APPARATUS

創作型式：
專利證號：
I254485
發明人：
李乘清 LEE, CHENG CHING林聖朝 LIN, SANG CHAUR林大春 LIN, DA CHUEN
國別：
中華民國
獲證日期：
20060501
專利摘要：
一種電磁波反射裝置適於接收一電磁波並將其反射，電磁波反射裝置包括一聚焦球體與一反射元件。其中，反射元件配置於聚焦球體外，且與聚焦球體相隔一距離，而聚焦球體適於接收電磁波並將電磁波聚焦於反射元件上，且此反射元件適於反射聚焦於其上之電磁波，以使電磁波再次通過聚焦球體。因此，本發明之電磁波反射裝置具有較高的反射效率。
IPC國際分類號：
H01Q-015/14