*

::: 可授權專利

基板之真空壓合裝置及壓合方法

創作型式:
專利證號:
I363892
發明人:
潘文珏 TW;賴哲雄 TW;范陽鑑 TW;林傳傑 TW
國別:
中華民國
獲證日期:
20120511
專利摘要:
本發明係有關於一種基板之真空壓合裝置,包含一上靜電吸盤、複數個第一薄膜、一下靜電吸盤、複數個第二薄膜與一第三腔室,上靜電吸盤下方設有複數個第一孔洞,每一第一孔洞相互導通以產生一第一腔室;複數個第一薄膜設於上靜電吸盤並遮蔽第一孔洞;下靜電吸盤上方設有複數個第二孔洞,每一第二孔洞相互導通以產生一第二腔室;複數個第二薄膜設於下靜電吸盤並遮蔽第二孔洞;第三腔室內部之上方與下方分別設置上靜電吸盤與下靜電吸盤。如此藉由第一腔室與第二腔室的排氣或充氣,以使靜電吸盤吸附或釋放玻璃基板,以減少玻璃基板密合時所產生之位移偏差。
IPC國際分類號:
G02F-001/13(2006.01)