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::: 可授權專利

卷對卷電化學拋光裝置

創作型式：
專利證號：
M465986
發明人：
林以中 LIN, YI CHUNG TW;胡松城 HU, SUNG CHUNG TW;徐松年 HSU, SUNG NIEN TW;鄭至峰 CHENG, CHIH FENG TW;楊浚揮 YANG, JYUN HUEI TW
國別：
中華民國
獲證日期：
20131121
專利摘要：
本創作主要目的在於提供一種卷對卷電化學拋光裝置，藉由輸送機構之放料單元卷放軟板工件，並藉由輸送單元輸送至前處理機構進行清洗乾燥程序之後，於電化學拋光機構將工件表面進行拋光平整，接著進入後處理機構清洗及乾燥，使軟板工件以連續式進行卷送料、前清洗、乾燥、電化學拋光、後清洗、乾燥後卷收料件之工序，進而達到利用電化學拋光工序可快速量產且降低成本之目的，並以一監控單元控制該電化學槽之導電度使軟板工件拋光處理後之表面粗糙度達到需求規格。
IPC國際分類號：
B24B-001/04(2006.01)