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::: 可授權專利

環氧樹脂與二氧化矽奈米複合防蝕材料及其製備方法

創作型式:
專利證號:
I371465
發明人:
楊正乾 TW;古旺彩 TW;陳欽義 TW;葉瑞銘 TW;張光欽 TW
國別:
中華民國
獲證日期:
20120901
專利摘要:
本發明環氧樹脂與二氧化矽奈米複合防蝕材料之製備方法,其步驟包括:將二氧化矽或氨丙基二氧化矽分散於溶劑中,形成二氧化矽溶液或氨丙基二氧化矽溶液;將三苯基甲烷三縮水甘油醚及1,4-丁二醇雙縮水甘油醚加入該二氧化矽溶液或氨丙基二氧化矽溶液,形成縮水甘油醚與二氧化矽溶液或縮水甘油醚與氨丙基二氧化矽溶液;加入一硬化劑至縮水甘油醚與二氧化矽溶液或縮水甘油醚與氨丙基二氧化矽溶液,形成環氧樹脂與二氧化矽溶液或環氧樹脂與氨丙基二氧化矽溶液,熟化後得到本發明奈米複合防蝕材料,其能應用於光電元件或其他場合之防腐蝕領域。
IPC國際分類號:
C08L-063/00(2006.01);C08K-003/36(2006.01);C08K-005/544(2006.01);C09D-163/00(2006.01);C23F-015/00(2006.01)