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::: 可授權專利

一種電漿熔射用遮罩

創作型式：
專利證號：
M431174
發明人：
楊振 YANG, CHENG TW;薄慧雲 BO, HUI YUN TW;林俊銘 LIN, CHUN MING TW;蔡顯榮 TSAI, HSIEN LUNG TW
國別：
中華民國
獲證日期：
20120611
專利摘要：
本創作係使用遮罩及電漿熔射特性所設計之熔射夾具，用以進行於材料表面上熔射特定幾何形狀之凸出物；係於熔射工件上放置一遮罩，遮罩上挖設有欲熔射凸出物幾何形狀之孔洞，遮罩上挖設之孔洞需有錐度，下方需較上方為大，可有效解決熔射時熔射材料阻塞孔洞及黏著於遮罩之情況發生，而達到於材料表面上熔射規則或不規則之凸出物之目的。
IPC國際分類號：
C23C-002/00(2006.01)