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::: 可授權專利

光斑取像裝置與方法

創作型式：
發明
專利證號：
TWI275781
發明人：
黃宜裕、王茂燃、黃文政、馬心一、陳銘
國別：
中華民國
獲證日期：
2005/09/30
專利摘要：
一種光斑取像裝置與方法，係由光源發射一高同調性光，且高同調性光照射表面時，進而產生散射光，此散射光通過限光件，而使散射光發生繞射效應而產生繞射光，此繞射光彼此干涉而產生光斑，最後感測器擷取此光斑而成為光斑圖，所以本發明係利用了繞射與干涉效應，使光斑的尺寸可變大，並且光斑的圖像可清晰，容易辨別，因此，本發明的光斑取像裝置與方法可以很穩定，且很靈敏。
IPC國際分類號：
G01C000300