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::: 可授權專利

具非均勻磁場強度之金屬件的製造方法

創作型式：
發明
專利證號：
TWI304843
發明人：
許文榮、施修正、黃建和、黃宏芳、黎俊驛
國別：
中華民國
獲證日期：
2005/12/23
專利摘要：
利用鋁或鋁合金的陽極處理獲取之多孔性氧化膜作為電鑄磁性金屬件的模版，使電鑄的金屬之一面或部分面上具有奈米金屬線的結構，此奈米金屬線的深寬比除了由陽極處理之電解條件與電解質決定外，也由陽極處理後的擴孔條件加以控制，較高深寬比的磁性金屬奈米線有較高的磁場強度，所以使電鑄的金屬件能在選擇性的面積上有較高的磁場強度，形成具有非均勻磁場強度的金屬件。
IPC國際分類號：
B22F000311