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::: 可授權專利

以單一光罩多重浸入曝光產生微結構之製法

創作型式：
發明
專利證號：
TWI360838
發明人：
葉茂勳、張家華、楊錫杭
國別：
中華民國
獲證日期：
2008/06/30
專利摘要：
本發明係有關一種以單一光罩多重浸入曝光產生微結構之製法，其包括下列步驟：一‧預備步驟、二‧多重曝光步驟、三‧產生最終重疊區域步驟以及四‧完成步驟；將一基板、一光阻及一光罩置於複數個傾斜位置進行曝光，並配合工作液折射率與傾斜角度，可以多次曝光於光阻上重疊形成不同形狀的幾何結構；如此兼具可以單一光罩製作不同的微結構、製程簡單且尺寸穩定、可縮短製程並降低製作成本、與應用範圍廣泛等優點及功效。
IPC國際分類號：
H01L0021027