*

::: 可授權專利

球微影蝕刻玻璃基材的方法

創作型式：
發明
專利證號：
TWI491053
發明人：
蔡孟宏、魏肇男、薄慧雲、方冠榮
國別：
中華民國
獲證日期：
2010/12/02
專利摘要：
本發明係一種球微影蝕刻玻璃基材的方法，包含以下步驟：提供一玻璃基板；於該玻璃基板上形成複數作為阻擋層之球體；對該玻璃基板及阻擋層進行反應離子蝕刻；以及將該蝕刻後之玻璃基板進行鍍膜，藉以提高光散射程度，及降低光的反射率，進而提升太陽能電池的效率。
IPC國際分類號：
H01L0031023