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::: 可授權專利

光斑定位方法及光斑定位系統

創作型式：
發明
專利證號：
TWI402721
發明人：
陳君豪、黃宜裕、黃文政、王茂燃、江廷尉、廖志明、馬心一、黃欽德
國別：
中華民國
獲證日期：
2009/12/03
專利摘要：
本發明揭露一種利用不變形雷射光斑影像來做二維精密定位之方法及系統。本發明預先以一高同調性雷射光照射一定位母板，記錄自該定位母板散射之光因干涉而造成的不變形光斑，以建立一光斑查閱表，並定義一基準點以進一步對各記錄光斑定位。藉由該光斑查閱表，可查出任一光斑所對應座標位置，進而引導一待定位物定位及應用於距離量測。本發明可控制取像光斑在數微米大小，足以提供高精度定位。
IPC國際分類號：
G01B001100