*

::: 可授權專利

X 光斷層掃描裝置

創作型式：
發明
專利證號：
TWI504887
發明人：
林韶光、呂金山
國別：
中華民國
獲證日期：
2012/12/10
專利摘要：
本發明係為一種X光斷層掃描裝置，該裝置包含：一基座；一待測機構，其包括成像單元、置物單元與活動單元，設置於該基座之一側；其中活動單元包含至少一個以上之連桿，連結該待測機構之該成像單元與該置物單元，使該成像單元與該置物單元產生連動；以及一放射機構，用以發射放射線，照射該待測機構之置物單元一側。該裝置使被測物進行放射線檢測時產生往復作動，達到傳統放射線檢測裝置具有斷層掃描之效果，降低雜訊，以降低判讀失誤風險。
IPC國際分類號：
G01N002300