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::: 可授權專利

可提升蒸鍍材料使用率之線性蒸鍍裝置

創作型式：
發明
專利證號：
TWI588279
發明人：
倪國裕、薄慧雲、魏肇男、黃偉傑、梁仕昌
國別：
中華民國
獲證日期：
2014/11/07
專利摘要：
一種可提升蒸鍍材料使用率之線性蒸鍍裝置，具有一反應腔體，供以對一基材進行鍍膜製程，其特徵在於反應腔體內具有至少一絕熱腔體，且於絕熱腔體內設有一線性蒸鍍源，並透過一混合腔體均勻混合線性蒸鍍源蒸氣，於該絕熱腔體內導入一反應式蒸鍍材之蒸氣，使線性蒸鍍源自混合腔體散出時與反應式蒸鍍材蒸氣進行反應並一併自絕熱腔體噴出以於該基板進行鍍膜，藉此使各蒸鍍材料蒸氣皆可被充分有效利用，提升材料之使用率，同時透過絕熱腔體之高溫環境使反應式蒸鍍材蒸氣產生裂解效應形成更小分子團，係可提升製備而成薄膜之品質。
IPC國際分類號：
C23C001424