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::: 可授權專利

一種原子層磊晶系統之進氣管路陣列A GAS INLET ARRAY FOR ATOMIC LAYER DEPOSITION SYSTEM

創作型式：
發明
專利證號：
TWI571526
發明人：
柯志忠、倪國裕、薄慧雲、蕭銘華、李文傑、梁仕昌、魏肇男、余友軒、林俊霆
國別：
中華民國
獲證日期：
2015/12/18
專利摘要：
本發明提出一種原子層磊晶系統之進氣管路陣列，將前驅物注入口與排氣口陣列式排列，用以縮短前驅物入口-基板-抽氣口之距離，達成快速移除沉積反應後剩餘氣體之目的。
IPC國際分類號：
C23C0016455