*

::: 可授權專利

二次非線性光學環氧樹酯寡聚物、發色基團及包含該寡聚物之交聯層狀二次非線性光學奈米複合材料的製造方法

創作型式:
發明
專利證號:
TWI640550
發明人:
賴郁文、吳建欣、鄭如忠、葉世傑、蘇文炯
國別:
中華民國
獲證日期:
2016/02/05
專利摘要:
本發明提出一種二次非線性光學環氧樹酯寡聚物、發色基團及包含該寡聚物之交聯層狀二次非線性光學奈米複合材料的製造方法,藉由酸化二次非線性光學環氧樹脂寡聚物複合材料,可將黏土完全脫層,並可應用於其他二維層狀材料之脫層化,並透過自組裝達到發色團基的非中心對稱,包括陽離子型水滑石、陰離子型矽酸鹽黏土與有機官能化之層狀石墨碳材等。交聯後的複合材料固定非中心對稱提升了熱穩定性。
IPC國際分類號:
B82Y003000