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::: 可授權專利

雷射光路結構改良

創作型式：
新型
專利證號：
TWM516260
發明人：
任國光、陳志鵬、黃石
國別：
中華民國
獲證日期：
2015/10/05
專利摘要：
本創作係提供一種雷射光路結構改良，其係為一種運用於具有可移動工作平台之雷射列印光路結構改良，該結構係包括光源模組及雷射模組，利用該光源模組產生一雷射光源，透過設置於該光源模組一側之雷射模組接收該光源模組產生之雷射光源，並使該雷射光源產生具調整方向性之雷射光，配合該工作平台進行雷射列印，藉以達到提高雷射列印效果之目的。
IPC國際分類號：
H01S0003101