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::: 可授權專利

一種在多晶氮化鋁基板作高深寬比圖案的方法

創作型式：
發明
專利證號：
TWI594371
發明人：
尤逸玄、呂忠諺、呂理煌、林嘉鼎
國別：
中華民國
獲證日期：
2016/10/27
專利摘要：
一種在多晶氮化鋁基板作高深寬比圖案的方法，步驟包括：(A)提供一氮化鋁基板，於該氮化鋁基板製作一阻障層；(B)使用一能量束對該阻障層進行蝕刻，於該阻障層形成至少一凹部；(C)對該基板進行電漿蝕刻，以將該凹部深入該氮化鋁基板之中；(D)將該阻障層剝除，得到具有至少一高深寬比圖案之氮化鋁基板。藉此，使用一能量束在阻障層上直接製作圖案，再利用電漿蝕刻的方式蝕刻氮化鋁基板，可快速地、有效地製作一具有高深寬比圖案之氮化鋁基板。
IPC國際分類號：
H01L0021306