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::: 可授權專利

線性蒸鍍裝置

創作型式：
新型
專利證號：
TWM543876
發明人：
薄慧雲、倪國裕、梁仕昌、魏肇男、徐榮懋
國別：
中華民國
獲證日期：
2016/12/30
專利摘要：
本創作係提供一種線性蒸鍍裝置，供以針對一真空環境內之基材進行鍍膜製程，其具有至少一坩鍋及一加熱腔體，加熱腔體設於坩鍋之一側且具有一腔體加熱器，坩鍋供以容置一鍍材，其特徵在於，坩鍋具有一嘴口及一本體，嘴口由本體之一開口端緣向外延伸形成，且嘴口靠抵於加熱腔體內部，其中，坩鍋之嘴口側與本體側皆為受熱狀態，而形成兩段式加熱，藉此以消除鍍材之蒸氣凝結現象，提高鍍材使用率並提供穩定均勻之鍍材蒸氣，以製備具高均勻性之薄膜。
IPC國際分類號：
C23C001654