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::: 可授權專利

局部三維影像成形系統及其方法

創作型式:
發明
專利證號:
TWI669105
發明人:
林郁博、郭志暐、黃科志
國別:
中華民國
獲證日期:
2017/08/18
專利摘要:
本發明係提供一種局部三維影像成形系統及其方法,以比對第一參考軸向及第二參考軸向所產生之第一參考影像及第二參考影像,進行X光影像產生模組座標位置移動,藉以達到物件X光局部三維影像攝影,及進一步達到降低X光曝光劑使用之目的。
IPC國際分類號:
A61B000603