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::: 可授權專利

一種可提升光均勻度之中空奈米結構二次光學透鏡之製作方法

創作型式：
發明
專利證號：
TWI645586
發明人：
郭養國、黃士哲、阮建龍
國別：
中華民國
獲證日期：
2017/12/05
專利摘要：
一種可提升光均勻度之中空奈米結構二次光學透鏡之製作方法，步驟包括：(a)在一透鏡的表面形成一多晶系晶種層；(b)在該多晶系晶種層上成長數個隨機排列之奈米柱結構；(c)將該未成長奈米柱結構之晶種層去除，以使底下之透鏡表面裸露出來；(d)於該數個奈米柱結構與該透鏡表面裸露之部分濺鍍一陶瓷材料層；(e)去除該數個奈米柱結構，留下具有數個隨機排列中空奈米柱結構之陶瓷材料層。藉此，於一透鏡表面上形成一中空奈米結構層，該中空奈米結構具有散射光線之作用，可提升二次光學透鏡散射光均勻度。
IPC國際分類號：
B82Y004000