*

::: 可授權專利

一種用於量測坩堝內部熱場分布之裝置

創作型式：
發明
專利證號：
TWI648525
發明人：
馬代良、彭超群、柯政榮、虞邦英、郭志偉、趙英琮
國別：
中華民國
獲證日期：
2017/12/18
專利摘要：
一種用於量測坩堝內部熱場分布之裝置，包括：一坩堝，其包含一上蓋、一本體、一成長室及一料源區；一保溫材，設置於該坩堝外部；一可移動加熱元件，係用以加熱該坩堝；複數具有絕緣耐高溫材料包覆之熱電偶，藉由該上蓋上的複數孔洞，設置於該上蓋內部，用以量測坩堝內部熱場分布。藉此，利用具有絕緣耐高溫材料包覆之熱電偶，可有效量測及調整坩堝內部溫度分布達到長晶之最佳溫度分布。
IPC國際分類號：
C23C001424