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::: 可授權專利

用於積層製造之超合金材料

創作型式：
發明
專利證號：
TWI668310
發明人：
葉安洲、何奕霆、林柏伸、施建志、陳志鵬、陳育良、任國光
國別：
中華民國
獲證日期：
2018/03/01
專利摘要：
本發明係提供一種用於積層製造之超合金材料，具有如下以原子百分比計之組成：Ni為55.55~61.75at%、Co為12.5~15.0at%、Al為8.7~11.0at%、Cr為11.0~15.0at%、Nb為0.5~2.5at%、Mo為1.6~2.5at%，其餘則由C與不可避免雜質所構成。
IPC國際分類號：
B33Y007000