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::: 可授權專利

一種均勻碳化矽晶體製備裝置

創作型式：
發明
專利證號：
TWI723650
發明人：
陳學儀、虞邦英、戴嘉宏、馬代良、郭志偉、林柏丞、柯政榮
國別：
中華民國
獲證日期：
2019/11/26
專利摘要：
本發明提供一種均勻碳化矽晶體製備裝置，該均勻碳化矽晶體製備裝置可包含一圓筒、一摻雜錠、一平板，藉此可穩定且控制摻雜劑的提供，此配件不參與成長腔內反應，但在成長過程中維持其功效，最終可以得到半絕緣且電性均勻的碳化矽單晶。
IPC國際分類號：
C30B001314