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::: 可授權專利

一種用於量測坩堝內部熱場分布之裝置(坩堝?部の?度場分布を測定するための裝置)

創作型式:
發明
專利證號:
JP6506863
發明人:
馬代良、趙英琮、郭志偉、虞邦英、彭超群、柯政榮
國別:
日本
獲證日期:
2019/04/05
專利摘要:
【課題】坩堝内部の温度場分布を測定するための装置を提供する。【解決手段】坩堝内部の温度場分布を測定するための装置であって、上蓋と本体と成長室と材料充填部と、を含む坩堝と、該坩堝外部に設けられる保温材と、該坩堝を加熱するための移動自在の加熱素子と、該上蓋上の複数の穴部を介して該上蓋内部に設けられ、坩堝内部の温度場分布を測定するための耐熱絶縁被覆材で覆われる複数の熱電対と、を含む。これを介して耐熱絶縁被覆材で覆われる複数の熱電対を利用すると、坩堝内部の温度分布を効果的に測定及び調整することで、結晶成長の最適な温度分布を実現できる。【選択図】図1
IPC國際分類號:
A61N0001362