::: 科技專案
*

::: 技術處科專

可移轉技術

*
民國111年
民國112年
民國113年
 *
【年度】104 年研發成果
【科專】 關鍵技術科專
【領域】 機電運輸
關鍵字搜尋
年度

104
計畫名稱 大面積RTP硒／硫化製程技術暨設備自主開發計畫
執行單位 飛彈火箭研究所
技術名稱可線性蒸鍍之蒸鍍設備噴頭
技術現況敘述1 線性噴嘴。 2.可應用於大面積蒸鍍系統。 3.較少之材料耗損。 4.高均勻性蒸鍍技術。、
技術規格採用DSMC分析噴嘴設計及鍍膜膜厚均勻性，採用噴嘴設計預估得料率≧50%，非均勻度≦5%。
技術成熟度試量產
技術可應用範圍在光電、綠能、軟性電子等產業相關研究領域。
潛力預估可應用於大面積蒸鍍系統。
所需軟硬體設備分子流分析軟體。
需具備之專業人才分子流分析、石墨加熱控制
聯絡人員潘文玨
電子信箱sp718982@tpts5.seed.net.tw
電話03-4712201#352013
傳真03-4713318
參考網址