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C23：金屬材料鍍覆、表面化學處理、金屬材料之擴散處理

相關專利

項次	專利名稱	專利證號
1	火焰熔射快速製模的方法	206754
2	熔射製造止滑板的方法	206779
3	矽烷偶合劑組成物及其防蝕方法	203237
4	溶膠光學單面鍍膜裝置ONE-SIDE SOL-GEL OPTICAL COATING EQUIPMENT	M447389
5	環氧樹脂與二氧化矽奈米複合防蝕材料及其製備方法	I371465
6	抗蝕耐磨之金屬結構及其製造方法	I363812
7	用於半導體銅金屬層之化學機械研磨漿	I255851
8	鋁合金陽極表面處理之改良方法	132386
9	鋁合金表面處理之改良方法	115844
10	Method for enhancing the corrosion resistance of chemical conversion coating aluminum	US6074495A
11	具無線辨識之實體稽核的系統及其方法	US8164453B2
12	透明導電薄膜及其製造方法TRANSPARENT CONDUCTIVE THIN FILM AND METHOD OF MANUFACTURING THEREOF	I297361
13	鍍膜腔體結構及其鍍膜製程A VACUUM CHAMBER AND A DEPOSITION PROCESS USING THE SAME	I388690
14	一種利用物理氣相沉積鋁改善α2-鈦鋁介金屬之高溫耐氧化性	TWI247818
15	一種濺鍍靶材的製造方法	TWI226907
16	金屬圖案形成系統及金屬圖案形成方法METAL PATTERN FORMATION SYSTEM AND METAL PATTERN FORMATION METHOD	I379775
17	一種電漿熔射用遮罩	M431174
18	蝕刻廢銦液回收金屬之裝置	M387108
19	一種利用物理氣相沈積鋁改善γ-鈦鋁介金屬之高溫耐氧化性的方法	207290
20	銦錫氧化物濺鍍罩用金屬板材及其製造方法	182932
21	金屬濺鍍靶材的製造方法	182793
22	一種連續式大面積噴塗石墨烯之成膜裝置	M450573
23	一種利用物理氣相沉積鋁改善α2-鈦鋁介金屬之高溫耐氧化性THE IMPROVEMENT OF HIGH TEMPERATURE OXIDATION RESISTANCE OF α2-Ti3Al INTERMETALLIC BY USING PHYSICAL VAPOR AL-DEPOSITION PROCESS	I247818
24	一種濺鍍靶材的製造方法METHOD OF PRODUCING A SPUTTERING TARGET	I226907
25	光阻上施行噴灑式化學鎳的方法	122515
26	鋁及鋁合金濺鍍靶材及其製造方法METHOD OF MANUFACTURING AL AND AL ALLOY SPUTTERING TARGET	I296286
27	透明導電薄膜及其製造方法	TWI297361
28	塑膠粒子披覆金屬之製備方法	TWI427185
29	P型氧化鋅薄膜的製作方法	TWI447820
30	鍍膜腔體結構及其鍍膜製程	TWI388690
31	尖晶石鎳鈷氧化物靶材之製造方法	TWI476291
32	一種提高昇華沉積速率之設備及其方法	TWI513839
33	提升硒化物薄膜成長品質之蒸鍍裝置EVAPORATION APPARATUS WITH IMPROVED SELENIUM COMPOUND FILM GROWING QUALITY	TWI485276
34	一種蒸鍍噴嘴結構	TWM475463
35	I–III–VI族化合物之I–III族前驅物薄膜之製造方法	TWI515317
36	可提升薄膜均勻度之線性蒸鍍裝置	TWM491673
37	蒸鍍裝置	TWM496650
38	穩定蒸鍍均勻性薄膜之方法及其裝置	TWI523962
39	可提升蒸鍍材料使用率之線性蒸鍍裝置	TWI588279
40	用於玻璃基板之硒化製程設備 (舊:太陽能電池光吸收層快速硒化之設備)	TWI523963
41	軟性太陽能電池光吸收層之真空製程設備及其製造方法VACUUM MANUFACTURE SYSTEM AND METHOD FOR FABRICATING LIGHT-ABSORBING LAYER OF FLEXIBLE SOLAR BATTERY	TWI495740
42	高純度碳化物模具之製作方法	TWI571520
43	一種改善氮化鋁基板與銅鍍層之界面應力的結構	TWI553154
44	一種原子層磊晶系統之進氣管路陣列A GAS INLET ARRAY FOR ATOMIC LAYER DEPOSITION SYSTEM	TWI571526
45	氫電漿結晶退火系統及其方法	TWI587399
46	可線性蒸鍍之蒸鍍設備噴頭EVAPORATING DEVICE WITH LINEAR SPRAY HEAD	TWI479040
47	可量化固態物質蒸鍍量之裝置及其方法	TWI586823
48	銅銦鎵硒薄膜硫化裝置	TWI596234
49	線性蒸鍍裝置	TWM543876
50	批次式鍍膜製程系統	TWM539510
51	批次式鍍膜製程系統	TWI620830
52	多鍍材線性蒸鍍裝置	TWI691609
53	一種連續式成長大面積石墨烯透明導電膜之裝置	TWM541472
54	坩鍋溫控裝置	TWI588430
55	一種製備多晶系氮化鋁高反射鏡之方法	TWI656231
56	一種應用於濺鍍靶槍上之加熱載台裝置	TWI641712
57	一種用於量測坩堝內部熱場分布之裝置	TWI648525
58	一種用於生長特定形狀碳化物之裝置	TWI675946
59	整合式快速硒硫化製程設備	TWI617684
60	一種製備氮化鋁-氧化鋅紫外光檢測電極之方法	TWI750549
61	MICROELECTRONIC 3D PACKAGING STRUCTURE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME(微電子三維建構裝技術)	US9288907B2
62	Double-Output Half-Bridge LLC Serial Resonant Converter (半橋式之雙輸出LLC串聯諧振轉換器)	US8929109B2
63	力率改善コンバ？タ及びその制御方法(中文:功率因數修正轉換裝置及其控制方法)	JP6276368
64	Device for measuring distribution of thermal field in crucible (一種用於量測坩堝內部熱場分部之裝置)	US10612159B2
65	一種均勻碳化矽晶體製備裝置	US11072871B2
66	Method of producing secondary lens with hollow nano structures for uniform illuminance (可提升光均勻度之中空奈米結構二次光學透鏡與其製作方法)	US10711342B2