| 專利摘要 | 本創作主要係提供一種非接觸型真空吸盤,其主要於一吸盤本體內,設置包含有:一吸附底面,係位於該吸盤本體之下方底面;一圓錐流道,形成於該吸盤本體內部之錐狀槽,其以該吸附底面朝內漸縮設置;一入氣流道,以該圓錐流道其徑向設置之通孔狀,提供外部氣體可進入該吸盤本體內之流道,該入氣流道係與該圓錐流道相連通;一控制裝置,係提供該圓錐流道其底緣與該銜接流道相互接設之部位,形成可提供氣體通往該圓錐流道之一孔口;藉由上述構件,於該吸附底面與被吸附物件之間,作為氣體排氣設計以形成一氣體薄膜,而達到非接觸真空吸附之效果,同時該控制裝置進而可控制該孔口的開度,以調整氣體流量。 |