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專利名稱 鍍膜腔體結構及其鍍膜製程A VACUUM CHAMBER AND A DEPOSITION PROCESS USING THE SAME
專利證號 I388690
國別 中華民國
獲證日期 20130311
專利摘要 一種鍍膜腔體結構,其具有一可旋轉之圓環板,該可旋轉之圓環板上具有一氣流孔位,鍍膜真空腔體與均壓空間係藉由該氣流孔位而彼此連通,而一驅動單元,可驅動該可旋轉之圓環板進行旋轉,使真空腔體內氣體流場隨時間改變,降低鍍膜基材表面反應物局部滯留的可能性,進而提昇鍍膜厚度的均勻性。

IPC國際分類號

C23C-016/455(2006.01)