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專利名稱 薄膜之處理設備
專利證號 M420038
國別 中華民國
獲證日期 20120101
專利摘要 一種薄膜之處理設備，其包含有一加熱機構；一設於對應加熱機構位置處之承載機構，其包含有一基板、及一設於基板一面外側之輔助板；以及一設於基板與輔助板間之待處理薄膜。藉此，可使待處理薄膜與承載機構之基板及壓板緊密結合，之後再以加熱機構直接對待處理薄膜進行熱處理，因而形成對稱式加熱，讓待處理薄膜可均勻且快速升溫；除節省能源之外，更可防止待處理薄膜有自基板剝離、翹曲及破裂等現象發生，且可於熱處理過程中避免待處理薄膜內有特定元素蒸發散逸，導致有反應不完全之情形。

IPC國際分類號

H01L-021/324(2006.01)