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專利名稱 300Φ電子迴旋共振(ECR)電漿機台設備
專利證號 137744
國別 中華民國
獲證日期 20010528
專利摘要 本發明係一種300ψ 電子迴旋共振(ECR)電漿機台設備,係採用不同的幾何外型及耦合方式，以設計出一適合大面積晶圓製程之ECR電漿機台系統，包括有產生一2.45 GHz微波源、循迴器、假負載、方向耦合器、自動匹配器、電波模式轉換器、旋波器、500ψ微波共振腔、微波天線、石英微波窗、冷卻風扇、產生一873高斯均勻平面磁場之磁場源 (內含3組線圈)、500ψ電漿反應腔體、350ψ 晶圓固定基座、真空連接艙及分子渦輪泵浦等組成單元，其係使電子在磁場(873 高斯)下的高頻率旋轉，與右旋之圓型極化電磁波(2.45 GHz)相互作用產生共振，此共振現象若發生在真空的氣壓容器(電漿反應腔體)內時，於容器內的氣體分子即會被游離成電漿。

IPC國際分類號

H01L-021/26(2006.01);H05H-001/30(2006.01);(IPC 1-7) : H01L-021/26;H05H-001/30