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專利名稱 一種電漿熔射用遮罩
專利證號 M431174
國別 中華民國
獲證日期 20120611
專利摘要 本創作係使用遮罩及電漿熔射特性所設計之熔射夾具，用以進行於材料表面上熔射特定幾何形狀之凸出物；係於熔射工件上放置一遮罩，遮罩上挖設有欲熔射凸出物幾何形狀之孔洞，遮罩上挖設之孔洞需有錐度，下方需較上方為大，可有效解決熔射時熔射材料阻塞孔洞及黏著於遮罩之情況發生，而達到於材料表面上熔射規則或不規則之凸出物之目的。

IPC國際分類號

C23C-002/00(2006.01)