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專利名稱 UV微影技術中改善高黏滯性厚膜光阻塗佈製程的方法A METHOD THAT CAN IMPROVE HIGH VISCOSITY THICK FILM PHOTORESIST COATING IN UV LIGA PROCESS
專利證號 I288950
國別 中華民國
獲證日期 20071021
專利摘要 本發明提出一種於UV微影技術中改善高黏滯性厚膜光阻塗佈製程的方法，將兩同質但溶劑含量不同之厚膜光阻，先將黏滯性較低的光阻以旋塗方式塗佈至晶片上，再將高黏滯性的光阻以螺旋方式由外向內塗佈，並以重量換算厚度以改善傳統旋塗方式造成厚度不易控制的問題；再者將塗佈完成之晶片於軟烤(Soft Bake)過程中將晶片以及緩慢之轉速旋轉，利用光阻本身之流動性隨軟烤時間遞減的特性來改善光阻之平整度。以MicroChem Corp.(MCC)所開發之厚膜光阻SU8 2035及SU8 2100為例，其黏滯係數分別為7000(cSt)及45000(cSt)，將黏滯係數低的光阻 SU8 2035以固定轉速旋塗至晶片後，將黏滯係數高的光阻SU8 2100以螺旋方式由晶片外圍向中心塗上，並同時量測重量，以重量換算要求的厚度，完成後於熱板(hot plate)上加熱，當溫度超過光阻的玻璃轉化溫度(Glass Transition Temperature，Tg)後，光阻因黏滯性降低，加上光阻本身之內聚力及表面張力，會使得光阻均勻的攤塗至晶片表面；並於軟烤步驟時，以緩慢之速度轉動晶片，如此將對光阻之平整度有極大之改善，以厚度500μm光阻為例，平整度可達±10μm。

IPC國際分類號

H01L-021/027(2006.01);(IPC 1-7) : H01L-021/027