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專利名稱 金屬濺鍍靶材的製造方法
專利證號 182793
國別 中華民國
獲證日期 20030711
專利摘要 本發明係有關一種金屬濺鍍靶材之製造方法，其係將經由雙V熔煉製程，產生的單一金屬之鋁、鈦或銅或是添加選自銅、矽、鈦、鋯、錒、鉬、鎢、白金、金、鈮、鉭、鈷、錸、鈧等至少一種不同金屬所形成的合金，再經由高溫鍛造加工製程，生產適用於半導體產業及光電產業，具有微細化及高均質化的金屬濺鍍靶材。

IPC國際分類號

C23C-014/14(2006.01);(IPC 1-7) : C23C-014/14