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專利名稱 一種濺鍍靶材的製造方法METHOD OF PRODUCING A SPUTTERING TARGET
專利證號 I226907
國別 中華民國
獲證日期 20050121
專利摘要 本發明係提出一種濺鍍靶材的製造方法，此方法係經由真空感應熔煉(Vacuum Induction Melting，簡稱VIM)製程及真空電弧精煉(Vacuum Arc Remelting，簡稱 VAR)製程，產生合金鈷鉻(CoCr)或是添加選自鎳、鉭、鉑、硼、矽、鋅、鈦、釤、鈮、磷、銠、鈀、鈧、鋯、鐵、鉿、錸等一種以上不同金屬所形成之合金，不須後續之鍛造加工，直接將VAR鑄造成型後之鑄錠切削成濺鍍用靶材，此製造方法在目前靶材市場未有相同的概念被提出。此製程適用於光電產業及半導體產業用高品質靶材之生產，其量產性高、成品率高、能有效降低生產成本，且靶材品質優良均一。

IPC國際分類號

C23C-014/40(2006.01);(IPC 1-7) : C23C-014/40