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專利名稱 光阻上施行噴灑式化學鎳的方法
專利證號 122515
國別 中華民國
獲證日期 20000911
專利摘要 本發明係利用噴灑溶液於光阻表面的方式,不必浸泡工件於溶液中,在常溫下於光阻上進行化學鎳製程的方法。此發明提供新潁的化學鎳製程,包括溶液組成與操作方法,可獲取光滑的均勻鎳鍍層,具有簡便而經濟的優點,避免傳統化學鎳製程中所需要之種類多而體積又大的作業槽,同時也提供一種新穎的導電層批覆之方法。

IPC國際分類號

C23C-018/08(2006.01);(IPC 1-7) : C23C-018/08