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專利名稱 高氣密石墨之製作方法
專利證號 165546
國別 中華民國
獲證日期 20020921
專利摘要 本發明為高氣密石墨之製作方法，其製程包括：(1)在真空下將已混合硬化劑之喃甲醇滲入高密度石墨孔隙內；(2)取出高密度石墨並讓該材料仍覆蓋有滲入物下，進行低溫聚合反應處理；(3)取出已聚合反應處理石墨，將表面清除乾淨後放入熱處理裝置且慢速升溫硬化。如有需要更緻密化可再進行第二次同以上製程之處理。高密度石墨經緻密化處理後可明顯提升材料之密度及抗壓強度，並且大幅度降低氮氣漏氣率達107倍以上，同時可微微提高石墨導電度。本發明特點為以成木低、製程簡單且能有效將樹脂滲入具微孔之高密度石墨孔隙內。依照本發明的方法，可製造出漏氣率低及高抗壓強度之石墨，更利於今日燃料電池用石墨平板、單極氣密板及雙極分隔板等組件。

IPC國際分類號

C01B-031/04(2006.01);(IPC 1-7) : C01B-031/04