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專利名稱 光斑取像裝置與方法
專利證號 I275781
國別 中華民國
獲證日期 20070311
專利摘要 一種光斑取像裝置與方法，係由光源發射一高同調性光，且高同調性光照射表面時，進而產生散射光，此散射光通過限光件，而使散射光發生繞射效應而產生繞射光，此繞射光彼此干涉而產生光斑，最後感測器擷取此光斑而成為光斑圖，所以本發明係利用了繞射與干涉效應，使光斑的尺寸可變大，並且光斑的圖像可清晰，容易辨別，因此，本發明的光斑取像裝置與方法可以很穩定，且很靈敏。

IPC國際分類號

G01C-003/00(2006.01);G01J-009/00(2006.01);G06F-003/033(2006.01)