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專利名稱 投影效應校準方法
創作型式 發明
專利證號 TWI382331
國別 中華民國
獲證日期 2008/10/08
專利摘要 本發明係提供一種投影效應校準方法。根據本發明之投影效應校準方法包含下列步驟。首先，執行步驟(a)：使光學導覽系統相對物平面沿預定軌跡移動。接著，執行步驟(b)：藉由感測器感測預定軌跡，進而獲得投影軌跡。隨後，執行步驟(c)：根據經反射之光線與物平面之間之夾角計算投影效應值。最後，執行步驟(d)：以投影效應值校正投影軌跡，進而獲得與預定軌跡等比例之校正軌跡。

IPC國際分類號

G06F0003033
聯絡人 王淳右
電話 #329655
EMAIL f697frank@ncsist.org.tw