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專利名稱 球微影蝕刻玻璃基材的方法
創作型式 發明
專利證號 TWI491053
國別 中華民國
獲證日期 2010/12/02
專利摘要 本發明係一種球微影蝕刻玻璃基材的方法，包含以下步驟：提供一玻璃基板；於該玻璃基板上形成複數作為阻擋層之球體；對該玻璃基板及阻擋層進行反應離子蝕刻；以及將該蝕刻後之玻璃基板進行鍍膜，藉以提高光散射程度，及降低光的反射率，進而提升太陽能電池的效率。

IPC國際分類號

H01L0031023
聯絡人 王淳右
電話 #329655
EMAIL f826frank@ncsist.org.tw