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專利名稱 光斑定位方法及光斑定位系統
創作型式 發明
專利證號 TWI402721
國別 中華民國
獲證日期 2009/12/03
專利摘要 本發明揭露一種利用不變形雷射光斑影像來做二維精密定位之方法及系統。本發明預先以一高同調性雷射光照射一定位母板，記錄自該定位母板散射之光因干涉而造成的不變形光斑，以建立一光斑查閱表，並定義一基準點以進一步對各記錄光斑定位。藉由該光斑查閱表，可查出任一光斑所對應座標位置，進而引導一待定位物定位及應用於距離量測。本發明可控制取像光斑在數微米大小，足以提供高精度定位。

IPC國際分類號

G01B001100
聯絡人 王淳右
電話 #329655
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