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專利名稱 多段可調連續式電化學拋光系統
創作型式 發明
專利證號 TWI460781
國別 中華民國
獲證日期 2012/03/08
專利摘要 一種多段可調連續式電化學拋光系統，其包含至少一裝填有電解液之電解槽；一對應設於電解槽適當處之驅動機構；一由驅動機構帶動而於電解槽中移動之金屬薄片，其至少包含有一待處理表面；多數活動設於電解槽中且與一待處理表面具有預定電解間隙之電極部；以及一具有正、負電極之電源供應機構，其正電極係與金屬薄片連接，而負電極係與各電極部連接。藉此，可分段調整各電極部與待處理表面之電解間隙，以利用較佳之電極間距改變電流密度，進而改善待處理表面之粗糙度，而使金屬薄片於電化學拋光時，達到大面積施作、快速生產以及表面品質均勻之功效。

IPC國際分類號

H01L0021304
聯絡人 王淳右
電話 #329655
EMAIL f876frank@ncsist.org.tw