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專利名稱 X 光斷層掃描裝置
創作型式 發明
專利證號 TWI504887
國別 中華民國
獲證日期 2012/12/10
專利摘要 本發明係為一種X光斷層掃描裝置，該裝置包含：一基座；一待測機構，其包括成像單元、置物單元與活動單元，設置於該基座之一側；其中活動單元包含至少一個以上之連桿，連結該待測機構之該成像單元與該置物單元，使該成像單元與該置物單元產生連動；以及一放射機構，用以發射放射線，照射該待測機構之置物單元一側。該裝置使被測物進行放射線檢測時產生往復作動，達到傳統放射線檢測裝置具有斷層掃描之效果，降低雜訊，以降低判讀失誤風險。

IPC國際分類號

G01N002300
聯絡人 王淳右
電話 #329655
EMAIL f914frank@ncsist.org.tw