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專利名稱 一種蒸鍍噴嘴結構
創作型式 新型
專利證號 TWM475463
國別 中華民國
獲證日期 2013/12/18
專利摘要 一種蒸鍍噴嘴結構是利用→加熱→引導→防沉等控制為主軸，將鍍料以高效率且均勻分布的方式輸送到基材表面，形成一特定寬度且均勻厚度之鍍膜，產出高效能的太陽能吸收層。而影響蒸鍍均勻性的關鍵條件為→獨創帆形噴嘴外形→加熱→集中火力→引導→反射→隔離→絕熱→導熱等控制機制的設計理念。

IPC國際分類號

C23C001424
聯絡人 王淳右
電話 #329655
EMAIL f975frank@ncsist.org.tw