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專利名稱 電磁波真空窗
創作型式 發明
專利證號 TWI431656
國別 中華民國
獲證日期 2011/12/01
專利摘要 一種電磁波真空窗，其包含一具有第一、第二、第三及第四反射邊界之電磁波真空窗；以及一填充於第二與第三反射邊界間之石英玻璃，使該電磁波真空窗之第一~第四反射邊界內存在至少兩個共振頻率，且共振頻率之頻寬交疊程度係隨著石英玻璃厚度增加而變高。藉此，可作為電子迴旋共振電漿機台與微波電漿設備之使用，而達到具有良好之頻寬、可調整石英玻璃之尺寸與厚度、避免元件過熱，以及降低成本之功效。

IPC國際分類號

H01J003732
聯絡人 王淳右
電話 #329655
EMAIL f995frank@ncsist.org.tw