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專利名稱 可提升薄膜均勻度之線性蒸鍍裝置
創作型式 新型
專利證號 TWM491673
國別 中華民國
獲證日期 2014/08/12
專利摘要 一種可提升薄膜均勻度之線性蒸鍍裝置，具有一絕熱腔體、複數個坩鍋、複數個鍍材加熱器及一混合腔體，該等坩鍋、鍍材加熱器及該混合腔體皆設於絕熱腔體中，其特徵在於，混合腔體內相距該等坩鍋由近至遠依序設有一限流調整層、一流道調整件、一混合層及一線性蒸鍍層，其中限流調整層係為矩形片狀體，並對應各該坩鍋位置分設有複數個限流孔；流道調整件係為連通結構，且具有至少一流入口及至少一流出口，流入口係對應部分該等限流孔位置設置；混合層係為略呈I字型之片狀體結構；線性蒸鍍層係為矩形片狀體，並開設有由兩端至中間位置呈漸縮態樣之一線源蒸鍍開口，藉此可提升蒸鍍薄膜之成分均勻度。

IPC國際分類號

C23C001406
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