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專利名稱 穩定蒸鍍均勻性薄膜之方法及其裝置
創作型式 發明
專利證號 TWI523962
國別 中華民國
獲證日期 2014/10/03
專利摘要 一種穩定蒸鍍均勻性薄膜之方法及其裝置，係針對真空環境之基材進行蒸鍍薄膜製程，藉維持蒸鍍速率提升薄膜均勻度，其係將至少一蒸鍍材置於至少一蒸鍍容器中，並透過加熱器加熱且於蒸鍍容器壁上蓋設有一蓋板，當蒸鍍材加熱至蒸發狀態並於蒸鍍容器內達到第一蒸氣飽和壓力，蒸鍍材蒸氣即往一穩壓室流動，並於穩壓室達到小於第一蒸氣飽和壓力之第二蒸氣飽和壓力，真空環境具有真空背景壓力，且真空背景壓力小於第二蒸氣飽和壓力，使蒸鍍材蒸氣藉壓力差等速率由穩壓室朝向真空環境流動以對該基材進行蒸鍍，本發明係利用固定壓差使蒸鍍速率固定以提升成形薄膜之均勻度，並免除隨時間產生之蒸鍍鍍率變異情形。

IPC國際分類號

C23C001424
聯絡人 王淳右
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