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專利名稱 一種快速次像素絕對定位之方法
創作型式 發明
專利證號 TWI532016
國別 中華民國
獲證日期 2014/12/19
專利摘要 一種快速次像素絕對定位之裝置及方法，步驟包括：(A)擷取一目標物表面之一即時光斑影像；(B)提供一組粗精度光斑座標影像及複數組細精度光斑座標影像，該粗精度光斑座標影像及該細精度光斑座標影像包含一座標值；(C)利用一演算法先比對該即時光斑影像與該粗精度光斑座標影像後再與該細精度光斑座標影像比對而得一座標值；其中每一張該粗精度光斑座標影像係對應一組細精度光斑座標影像，該細精度光斑座標影像係再擷取該粗精度光斑座標影像後，以一固定的細精度位移重覆取像而獲得。藉此，可完成快速比對、高精度的次像素定位。

IPC國際分類號

G01N002195
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