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專利名稱 可擷取複數光點座標之方法
創作型式 發明
專利證號 TWI526668
國別 中華民國
獲證日期 2014/11/18
專利摘要 本發明提供一種可擷取複數光點座標之方法，係應用於一光線投射系統，此系統以複數光線發射器發射光線至屏幕上而形成複數光點，並以攝影機擷取影像，且光線發射器可任意產生一發射訊號；而本方法包括有：攝影機依時序擷取複數次影像；由依時序擷取之複數影像中，分別決定各影像中各光點之擷取時刻；由依時序擷取之複數影像中，分別計算各影像中各光點之座標；將上述各光點之擷取時刻及座標建置於一資料庫中；判斷各光線發射器產生發射訊號之發射時刻；於資料庫中選擇擷取時刻最接近發射時刻之光點，並提取上述光點之座標。

IPC國際分類號

A63F0013426
聯絡人 王淳右
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