::: 產業服務
*

::: 技術移轉

專利名稱 一種原子層磊晶系統之進氣管路陣列A GAS INLET ARRAY FOR ATOMIC LAYER DEPOSITION SYSTEM
創作型式 發明
專利證號 TWI571526
國別 中華民國
獲證日期 2015/12/18
專利摘要 本發明提出一種原子層磊晶系統之進氣管路陣列，將前驅物注入口與排氣口陣列式排列，用以縮短前驅物入口-基板-抽氣口之距離，達成快速移除沉積反應後剩餘氣體之目的。

IPC國際分類號

C23C0016455
聯絡人 王淳右
電話 #329655
EMAIL f1098frank@ncsist.org.tw