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專利名稱 雷射光路結構改良
創作型式 新型
專利證號 TWM516260
國別 中華民國
獲證日期 2015/10/05
專利摘要 本創作係提供一種雷射光路結構改良，其係為一種運用於具有可移動工作平台之雷射列印光路結構改良，該結構係包括光源模組及雷射模組，利用該光源模組產生一雷射光源，透過設置於該光源模組一側之雷射模組接收該光源模組產生之雷射光源，並使該雷射光源產生具調整方向性之雷射光，配合該工作平台進行雷射列印，藉以達到提高雷射列印效果之目的。

IPC國際分類號

H01S0003101
聯絡人 王淳右
電話 #329655
EMAIL f1130frank@ncsist.org.tw